镀膜石英片磁控溅射膜特性！

    好处：靶材颗粒能量高(比热蒸发高1个数量级)，制备的膜层更加致密，与石英片结合度更高：

    通常备有辅助离子源，可用于清洗石英片，清洗效果好；3。制备熔点高的材料；

    制作合金薄膜，可保证膜层的材料比例与靶材相同；5.由于装有中和器，还可用于制备绝缘膜层。

    缺陷：一般镀膜速度慢，每秒几十埃；

    经常更换离子源和中和灯丝的灯丝；

    不宜制备大面积的薄膜；

    在靶材上使用时的注意事项：靶材外形尺寸应符合机床要求；

    靶的外观、内部清洁程度都要高，是在洁净室内加工而成；3.靶材的质量可以按合同要求定制(高纯度99.99%.高密度.低气体含量，大小(银靶大约127×178×7mm，重量1.66Kg)，无裂纹，无孔洞);4.靶材的致密度要一致(可以在显微镜下观察到);5.靶材在使用中要记录该工序的各种数据，以观察其变化和缺口；6.用银靶15000WH、铬靶25000WH时需更换新靶材；7.靶材的更换应严格按照设备中的操作工艺进行；8.靶材使用后称重量(银靶材约1.25~1.3Kg)返回原供货商，处理后再用，来回循环。

    以上就是小编给大家讲的镀膜石英片磁控溅射膜的特点！简述大家可以了解看看，内容提供参考，需要咨询的可以与我们生产厂家联系。