磁控溅射法UVC石英片涂层的特点！

    好处：靶材颗粒能量高(比热蒸发高1个数量级)，所制膜层密度大，与石英片的结合力高：

    通常备有辅助离子源，可用于清洗石英片，清洗效果好；3、易制得熔点高的材料；

    通过对合金膜层的制备，确保膜层材料的比例与目标材料相同；5、由于安装了中和器，也可用于制备绝缘膜层。

    缺陷：

    普通电镀速度慢，每秒几十埃；

    离子源清除及中和器灯丝更换频繁；

    不宜作大面积的薄膜。

    靶的外形尺寸应符合机床要求的设计；

    目标外表与内在清洁度要高，且是在洁净的室内加工而成；3、目标材料的质量可根据合同要求定做(高纯度99.99%，高密度，低气体含量，尺寸(银靶约127×178×7mm，重量1.66Kg);4、目标材料的致密度要一致(在显微镜下可以观察到);5、目标材料在使用过程中的各种数据要记录下来，以便于观察其变化和差距；6、在15000WH时，使用银靶，铬靶25000WH，更换目标材料；7、更换目标材料时，严格按照设备中的操作程序进行；8、使用后称重(银靶约1.25~1.3Kg)返回原供应商，加工后再使用，循环使用。

    以上就是小编为您讲述UVC石英片磁控溅射膜的特点！简述大家可以了解了解，内容提供参考，需要咨询的可以与我们厂家联系。